金融界2024年7月2日消息，天眼查知识产权信息显示，安集微电子科技（上海）股份有限公司申请一项名为“一种化学机械抛光液“，公开号CN5.4，申请日期为2022年12月金沙js4399首页。

　　专利摘要显示，本发明提供了一种化学机械抛光液，包括研磨颗粒，电荷调节剂，腺嘌呤类衍生物，络合剂，氮唑类腐蚀抑制剂以及氧化剂；所述络合剂为氨羧化合物及其盐。本发明的化学机械抛光液对铜的去除速率高，对钽的去除速率低，从而具有较高的铜/钽去除速率选择比；可以改善抛光后铜线的碟型凹陷和介质层侵蚀；并且可以改善抛光后铜表面粗糙度和表面缺陷数量。